某企业主要从事半导体加工，生产期间伴随着大量的废水产生。

该企业正在筹划新增一条半导体生产线，其中包括了芯片制备以及芯片封装。由于该生产线是全天运行，每小时都会有大量的废水排出，更对企业的污水处理站造成巨大的冲击，因此需要扩建改造自身的污水处理站。

而半导体废水会来源于清洗、光刻、刻蚀、去胶、铜制程、研磨和封装等过程中，根据污染物又可以分为含氟废水、酸碱废水、含氨废水、有机废水、含金属废水等等。从这么多废水分类就可以看出，处理半导体废水时需要考虑很多的污染物，会采取更多的废水处理工艺。

依照我们13年来，在半导体废水处理工程的做法，分享几个处理半导体废水处理工艺。

半导体废水处理工艺

处理含氟废水常采用化学沉淀法

运用石灰，使氟离子与钙离子形成CaF2，生成难溶于水的盐类沉淀下来，从而降低水中这些溶解物质的含量。可加入适量的絮凝剂使废水中的氟化钙形成便于分离的矾花，从而实现废水中氟离子的分离。

处理酸碱废水常采用中和调节法

将酸碱废水进行酸碱中和，调整溶液的酸碱度（pH值），使其呈中性或接近中性，或适宜于下一步处理的pH值范围。

处理含氨废水常采用吹脱法

利用空气通过废水时与水中溶解气体发生氧化反应,使水中溶解性挥发物质由液相转入气相,并进一步吹脱分离的水处理方法。

处理有机废水常采用生物法

生物处理方法就是用微生物降解水中的有机物，可根据微生物对氧气的需求量分为好氧处理与厌氧处理。该方法的优点是运行费用低，有机物的去除率高，处理过程消耗的能量少。

处理含金属废水常采用化学沉淀法

将化学沉淀剂（硫化物、氢氧化物等）加入重金属废水中，重金属发生化学反应生成难溶解化合物而形成沉淀，再经过滤、离心等方法分离出沉淀物过程。但是处理过程中产生大量的污泥需要进行妥善处理。