目前市场上的平板显示器、LED加工、印制电路板、微机电领域、金刚石台面上制备金属薄膜电极、各种光栅、光子晶体等微纳光学元件、生物芯片、光刻制造微针都是属于光刻胶领域的一部分，在产品加工的过程中产生的大量污水应该要用什么设备进行处理呢?

光刻胶指的是通过紫外光、电子束、离子束、X射线等的照射或辐射，胶体的溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。

这些电子设备采用的原材料主要有树脂溶液、光敏剂、溶剂等，光刻胶废水的主要来源为对原材料的纯化产生的废水、生产过程中产生的废液、清洗设备产生的废水。

光刻胶的污水属于硅胶污水中的一种，因此是可以采用电子污水处理设备就进行污水处理，其污水处理的方法可以用：

1、物理法：物理法中的格栅主要是用以截阻大块的呈悬浮或漂浮状态的固体污染物，而且还可以将原有的胶状材料收集起来进行回收利用，从而提高材料的利用率，降低成本。

2、混凝沉淀法：往污水中加入混凝剂，混凝剂可以使水中的悬浮物以及中胶体物质等聚集成大颗粒絮体，在下落的过程中可以加速其沉淀的速度，最后达到固液分离的目的。

3、生物法：生物法可以达到去除部分的COD，从而提高B/C，主要是采用采用厌氧+好氧生物处理法的方式。

对于光刻胶工业的污水主要的污染物有树脂合成物、生物难以降解物质、有机物、石油类等，因此是不能直接排放于大自然中，但是不同的工业用的原材料是不一样的，因为采用的水处理工艺也是不同的。